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대학논문지
1. 이재성, 권혁주, 손선익, 이용수, 이용현
“재산화된 실리콘 질산화막의
전하 트랩 밀도 특성”
경북대학교 전자기술연구지 제 13 권, 1992.
2. 이재성, 이용수, 이상환, 이용현
“ NH3 분위기에서 질화된 실리콘
질산화막내의 수소 분포”
경북대학교 전자기술연구지 제 14 권 1993.
3. 이재성
“실리사이드공정이 아날로그용 다결정 실리콘 커패시터의 선형특성에
미치는 영향,”
위덕대학교 전자기술연구소 논문지, vol. 2, no. 1, 1999.
4. 이재성, 배영호
“Analytical Model and Characterization of Abnormally
Structured MOSFET's“
위덕대학교 전자기술연구소 논문지, vol. 3, no.
1, 2000.
5. 이재성, 정영철
“집적도 향상을 위한 n-MOSFET의 전기적 특성 및 모델링,”
위덕대학교 전자기술연구소 논문지, vol. 4, no. 2, 2000.
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